Wafer-Inspektion (100–300 mm) – MVP 900 W/ALW
Das MVP 900 ist in zwei Konfigurationen für die Wafer-Inspektion erhältlich.
Das ALW-Modell unterstützt eine vollautomatische Lösung, die mit einem Einarm-Roboter und einem Pre-Aligner integriert ist. Es werden Wafergrößen von 100 bis 300 mm unterstützt.
Das 900 W ist eine kostengünstige manuelle Beladungskonfiguration mit gleicher Seite für Be- und Entladung.
Das 900 W/ALW ist mit hochauflösender Optik und kundenspezifischer Beleuchtung ausgestattet, die die Grundlage für proprietäre Hochleistungsalgorithmen zur Erkennung folgender Defekte bildet:
• Kontamination/Verfärbung
• Delamination
• Fremdmaterial/Partikel
• Kratzer/Risse




Hauptmerkmale
- 2D- und 3D-fähig
- 100-, 150-, 200- und 300-mm-Wafer
- Optische Auflösung von 0,35 µm bis > 3,4 µm
- Oberflächeninspektion
- Bump-Inspektion 25 µm bis 500 µm
- Multispektrale Beleuchtung
- Echtzeit-Prozessüberwachung
Optionen
- Hochauflösender Laser-Profiler
- Manuelle Beladung
- Automatische Beladung
- Dritthersteller-Handler für SMIF, FOUP
- Vakuum
- SECS/GEM
- XML-Map-Ausgabe für nachgelagerte Sortierung
- Tintenmarkierung für Defektpositionen